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產(chǎn)品展示/ Product display

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  • GMSD2000高速、超高速研磨機(jī)

    高速、超高速研磨機(jī),對(duì)流體物料進(jìn)行精細(xì)加工的機(jī)械。它綜合了均質(zhì)機(jī)、球磨機(jī)、三輥機(jī)、剪切機(jī)、攪拌機(jī)等機(jī)械的多種性能,具有you越的超微粉碎、分散乳化、均質(zhì)、混合等功效。物料通過(guò)加工后,粒度達(dá)2~50微米,均質(zhì)度達(dá)90%以上,是超微粒加工的理想設(shè)備。

    更新時(shí)間

    2025-09-09

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  • GMSD2000豬血超細(xì)研磨機(jī)

    豬血超細(xì)研磨機(jī)專(zhuān)為豬血加工設(shè)計(jì),通過(guò)高速運(yùn)轉(zhuǎn)的定、轉(zhuǎn)子,利用剪切、研磨、高頻振動(dòng),將豬血組織細(xì)化。其具備精準(zhǔn)控溫功能,可減少營(yíng)養(yǎng)成分流失,適用于食品、生物制藥等領(lǐng)域,能高效將豬血研磨至超細(xì)狀態(tài),為后續(xù)加工奠定良好基礎(chǔ)。

    更新時(shí)間

    2025-09-09

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  • GMSD2000醫(yī)用氧化鎂研磨機(jī)

    醫(yī)用氧化鎂研磨機(jī)是處理醫(yī)用氧化鎂的專(zhuān)用設(shè)備,通過(guò)研磨、剪切作用將其顆粒細(xì)化至符合藥用標(biāo)準(zhǔn),提升純度與分散性。適用于醫(yī)藥領(lǐng)域,可保障氧化鎂在藥劑中的均勻性,滿足藥用輔料的嚴(yán)格要求。

    更新時(shí)間

    2025-09-09

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  • GMSD2000顏料用高速研磨機(jī)

    顏料用高速研磨機(jī)是處理顏料的專(zhuān)用設(shè)備,通過(guò)高速旋轉(zhuǎn)的研磨介質(zhì)產(chǎn)生剪切、沖擊和研磨力,將顏料顆粒細(xì)化并均勻分散,提升粒徑一致性與著色力。適用于涂料、油墨等領(lǐng)域,可增強(qiáng)顏料分散穩(wěn)定性與應(yīng)用性能。

    更新時(shí)間

    2025-09-09

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  • XMD對(duì)位芳綸沉析納米研磨機(jī)

    對(duì)位芳綸沉析納米研磨機(jī)過(guò)膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時(shí)受到強(qiáng)大的剪切力、摩擦力、高頻振動(dòng)等物理作用,使物料被有效地研磨、分散和粉碎,達(dá)到物料超細(xì)粉碎及均質(zhì)的效果。

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    2025-09-05

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  • XMD氧化鈷濕法分散研磨機(jī)

    氧化鈷濕法分散研磨機(jī)需要加入液體介質(zhì)中分散應(yīng)用,氧化鈷+液體介質(zhì)+分散劑采用XMD2000系列研磨分散機(jī)進(jìn)行研磨分散,解決團(tuán)聚問(wèn)題,更均勻的分散,并進(jìn)一步細(xì)化粒徑,一般分散后粒徑為D90小于1微米,分散效果好,效率高。

    更新時(shí)間

    2025-09-05

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  • XMD絕緣抗電暈涂料高速膠體研磨機(jī)

    絕緣抗電暈涂料高速膠體研磨機(jī)在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類(lèi)型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個(gè)很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)征不一樣。狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。

    更新時(shí)間

    2025-09-05

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  • XM花粉破壁18000rpm研磨機(jī)

    花粉破壁18000rpm研磨機(jī)是由電動(dòng)機(jī)通過(guò)皮帶傳動(dòng)帶動(dòng)轉(zhuǎn)齒(或稱(chēng)為轉(zhuǎn)子)與相配的定齒(或稱(chēng)為定子)作相對(duì)的高速旋轉(zhuǎn),被加工物料通過(guò)本身的重量或外部壓力(可由泵產(chǎn)生)加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力,透過(guò)膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時(shí)受到強(qiáng)大的剪切力、摩擦力、高頻振動(dòng)等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果。

    更新時(shí)間

    2025-09-05

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