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產(chǎn)品展示/ Product display

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  • GMSD2000墨水染料研磨機膠體磨

    墨水染料研磨機膠體磨 工作原理:研磨分散機是由電動機通過皮帶傳動帶動轉(zhuǎn)齒(或稱為轉(zhuǎn)子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對的高速旋轉(zhuǎn),被加工物料通過本身的重量或外部壓力(可由泵產(chǎn)生)加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力,透過膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達到物料超細粉碎及乳化的效果。

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    2025-09-09

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  • XMD2000煙用香精濃縮液高剪切膠體磨

    煙用香精濃縮液高剪切膠體磨定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間距離。在增強的流體湍流下。凹槽在每級口可以改變方向。

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    2025-09-06

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  • XMD2000碳酸氫鈉注射液均質(zhì)膠體磨

    碳酸氫鈉注射液均質(zhì)膠體磨定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間距離。在增強的流體湍流下。凹槽在每級口可以改變方向。

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    2025-09-06

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  • XMD2000β環(huán)糊精高剪切均質(zhì)乳化機

    β環(huán)糊精高剪切均質(zhì)乳化機 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間距離。在增強的流體湍流下。凹槽在每級口可以改變方向。

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    2025-09-06

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  • XMD2000脫細胞真皮基質(zhì)膠體磨

    脫細胞真皮基質(zhì)膠體磨定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間距離。在增強的流體湍流下。凹槽在每級口可以改變方向。

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  • XMD2000二氧化硅消光粉高速膠體磨

    二氧化硅消光粉高速膠體磨定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間距離。在增強的流體湍流下。凹槽在每級口可以改變方向。

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  • XMD2000阿莫西林混懸液超高速膠體磨

    阿莫西林混懸液超高速膠體磨定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間距離。在增強的流體湍流下。凹槽在每級口可以改變方向。

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  • XMD2000楓香脂蕓香浸膏膠體磨

    楓香脂蕓香浸膏膠體磨由于轉(zhuǎn)子高速旋轉(zhuǎn)所產(chǎn)生的高切線速度和高頻機械效應(yīng)帶來的強勁動能,使物料在定、轉(zhuǎn)子狹窄的間隙中受到強烈的機械及液力剪切、離心擠壓、液層摩擦、撞擊撕裂和湍流等綜合作用,形成懸浮液(固/液),乳液(液體/液體)和泡沫(氣體/液體)。

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    2025-09-06

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